走査型プローブ顕微鏡を用いた新しい微細加工技術の開発とナノスケールSiデバイスへの適用に関する研究

Name of awarding university/degree: 東京農工大学,博士（工学）,Doctor of Philosophy (Engineering)

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Material Type: 博士論文
Title: 走査型プローブ顕微鏡を用いた新しい微細加工技術の開発とナノスケールSiデバイスへの適用に関する研究
Title Transcription: ソウサガタプロープケンビキョウオモチイタアタラシイビサイカコウギジュツノカイハツトナノスケール Si デバイスエノテキヨウニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 西村, 信也
Author Heading: 西村, 信也ニシムラ, シンヤ
Alternative Title: Study on advanced lithography techniques using scanning probe microscopy for fabrication of nanoscale Si devices
Degree grantor/type: 東京農工大学
Date Granted: 2011-03-25
Dissertation Number: 博工甲第729号
Degree Type: 博士（工学）
Doctor of Philosophy (Engineering)
Text Language Code: eng
Target Audience: 一般
Format (IMT): application/pdf
Source: 本文 fulltext （fulltext）
https://tuat.repo.nii.ac.jp/record/892/files/201103NishimuraShinya_F.pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 東京農工大学 : 東京農工大学学術機関リポジトリ