光応答性架橋液晶高分子の力学解析

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Tokyo Tech Research Repository
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Material Type: 図書
Title: 光応答性架橋液晶高分子の力学解析
Author/Editor: 赤松, 範久
Akamatsu, Norihisa
宍戸, 厚
Shishido, Atsushi
Author Heading: 赤松, 範久
Akamatsu, Norihisa
宍戸, 厚
Shishido, Atsushi
Publication, Distribution, etc.: エヌ・ティ－・エス
Publication Date: 2014-10
Publication Date (W3CDTF): 2014-10
Periodical title: ゲルテクノロジーハンドブック
Pages: 49-54
Text Language Code: jpn
Target Audience: 一般
Note (General): identifier:oai:t2r2.star.titech.ac.jp:50339913
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 東京工業大学 : 東京工業大学リサーチリポジトリ