高周波スパッタリングによる薄膜形成とMOS素子への応用に関する研究

Notes on use

Related materials as well as pre- and post-revision versions

000000170900

Search by Bookstore

This page shows libraries in Japan other than the National Diet Library that hold the material.

Please contact your local library for information on how to use materials or whether it is possible to request materials from the holding libraries.

other

Shizuoka University REpository
Digital
You can check the holdings of institutions and databases with which 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ） is linked at the site of 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）.
Shizuoka University REpository

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Material Type: 文書・図像類
Title: 高周波スパッタリングによる薄膜形成とMOS素子への応用に関する研究
Author/Editor: 谷内, 利明
Author Heading: 谷内, 利明
Publication, Distribution, etc.: 静岡大学大学院電子科学研究科
Publication Date: 1988-03-25
Publication Date (W3CDTF): 1988-03-25
Alternative Title: Thin Film Formation by RF Sputtering Deposition and Its Application to MOS Device Fabrication
Periodical title: 静岡大学大学院電子科学研究科研究報告
No. or year of volume/issue: 9
Volume: 9
Pages: 51-53
ISSN (Periodical Title): PISSN : 03885070
Text Language Code: jpn
NDC: 549
Target Audience: 一般
Note (General): 博士学位論文の要旨学位記番号:工博乙第13号
乙第14号
application/pdf
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Related Material: 000000170900
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 静岡大学 : 静岡大学学術リポジトリ