エバネッセント光の動的空間分布制御による次世代半導体表面ナノ欠陥の高速計測法

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Material Type: 文書・図像類
Title: エバネッセント光の動的空間分布制御による次世代半導体表面ナノ欠陥の高速計測法
Author/Editor: 臼杵, 深
Author Heading: 臼杵, 深
Publication, Distribution, etc.: 静岡大学
Publication Date: 2011-06-01
Publication Date (W3CDTF): 2011-06-01
Alternative Title: High-Speed Defect Measurement of Next-Generation Semiconductor Wafer Using Active Control of Evanescent Light
Text Language Code: jpn
NDC: 549
Target Audience: 一般
Note (General): 2008年度～2010年度科学研究費補助金(基盤研究(C))研究成果報告書
Format (IMT): application/pdf
Source: https://shizuoka.repo.nii.ac.jp/?action=repository_action_common_download&item_id=5970&item_no=1&attribute_id=31&file_no=1
https://shizuoka.repo.nii.ac.jp/?action=repository_action_common_download&item_id=5970&item_no=1&attribute_id=31&file_no=1
Access Restrictions: 限定公開
Related Material: 20569001
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 静岡大学 : 静岡大学学術リポジトリ