磁場印加PLD法による半導体/絶縁体超格子薄膜の自発的生成と巨大熱電特性

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15H04123

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Material Type: 文書・図像類
Title: 磁場印加PLD法による半導体/絶縁体超格子薄膜の自発的生成と巨大熱電特性
Author/Editor: 脇谷, 尚樹
Author Heading: 脇谷, 尚樹
Publication, Distribution, etc.: 静岡大学
Publication Date: 2018-06-14
Publication Date (W3CDTF): 2018-06-14
Alternative Title: Spontaneous formation of semiconductor/insulator superlattice thin film using Dynamic Aurora PLD and its large thermoelectric property
Text Language Code: jpn
Subject Heading: ダイナミックオーロラPLD
スピノーダル分解
自発的超格子構造生成
エピタキシャル成長
熱電特性
酸化物
薄膜
NDC: 549
Target Audience: 一般
Note (General): 2015年度～2017年度科学研究費助成事業(基盤研究(B)(一般))研究成果報告書
application/pdf
Format (IMT): application/pdf
Source: 15H04123seika
https://shizuoka.repo.nii.ac.jp/record/11480/files/15H04123seika.pdf
Access Restrictions: 限定公開
Related Material: 15H04123
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 静岡大学 : 静岡大学学術リポジトリ