高誘電率ゲート絶縁膜の薄膜化と電界効果トランジスタのキャリア輸送への影響

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OUKA (Osaka University Knowledge Archive)
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Material Type: 博士論文
Title: 高誘電率ゲート絶縁膜の薄膜化と電界効果トランジスタのキャリア輸送への影響
Title Transcription: コウユウデンリツゲートゼツエンマクノハクマクカトデンカイコウカトランジスタノキャリアユソウヘノエイキョウ
Author/Editor: 安藤, 崇志
Author Heading: 安藤, 崇志アンドウ, タカシ
https://nrid.nii.ac.jp/nrid/1000040281191
Alternative Title: Ultimate Scaling of High-κ Gate Dielectrics and Impact on Carrier Transport of Field-Effect Transistors
Degree grantor/type: OU
Date Granted: 2010-09-22
Dissertation Number: 甲第14540号
Degree Type: 博士（工学）
Text Language Code: eng
Subject Heading: High-k
Metal Gate
Mobility
CMOS
DRAM
高誘電率
メタルゲート
移動度
Target Audience: 一般
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 大阪大学 : 大阪大学学術情報庫　桜華