硝酸酸化法により形成した極薄二酸化シリコン膜とその超低消費電力多結晶シリコン薄膜トランジスタへの応用に関する研究
Digital data available（大阪大学学術情報庫 桜華）
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 博士論文
- Title Transcription
- ショウサン サンカホウ ニヨリ ケイセイ シタ ゴクウス ニサンカ シリコンマク ﾄ ソノ チョウテイショウヒ デンリョク タケッショウ シリコンマク トランジスタ ヘノ オウヨウ ニカンスル ケンキュウ
- Author/Editor
- 久保田, 靖
- Author Heading
- 久保田, 靖 クボタ, ヤスシ
- Alternative Title
- Study on Ultra-Thin Silicon Dioxide Layer Formed by Nitric Acid Oxidation Method and Application to Ultra-low Power Poly-Si TFT
- Degree grantor/type
- 大阪大学
- Date Granted
- 2012-03-22
- Dissertation Number
- 甲第15457号
- Degree Type
- 博士（理学）