金属の触媒作用を用いたシリコンMOS構造の低温形成

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OUKA (Osaka University Knowledge Archive)
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Material Type: 博士論文
Title: 金属の触媒作用を用いたシリコンMOS構造の低温形成
Author/Editor: 湯浅, 俊郎
Author Heading: 湯浅, 俊郎ユアサ, トシロウ
Alternative Title: Low Temperature Formation of Si-based MOS Structure by Use of Catalytic Activity of a Metal Layer
Degree grantor/type: 大阪大学
Date Granted: 2000-03-24
Dissertation Number: 甲第07541号
Degree Type: 博士（工学）
Text Language Code: und
Target Audience: 一般
Format (IMT): application/pdf
Source: 15506_Abstract.pdf （abstract）
https://ir.library.osaka-u.ac.jp/repo/ouka/all/42193/15506_Abstract.pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 大阪大学 : 大阪大学学術情報庫　桜華