水溶液試料への低LET放射線照射によって生成するヒドロキシルラジカルの分子密度

• Material Type: 文書・図像類
• Title: 水溶液試料への低LET放射線照射によって生成するヒドロキシルラジカルの分子密度
• Author/Editor: 小川, 幸大; 松本, 謙一郎; 藤崎, 真吾; 小川 幸大; 松本 謙一郎
• Author Heading: 小川, 幸大; 松本, 謙一郎; 藤崎, 真吾; 小川 幸大; 松本 謙一郎
• Publication Date: 2014-12-20
• Publication Date (W3CDTF): 2014-12-20
• Text Language Code: jpn
• Target Audience: 一般
• Note (General): 第 29 回日本酸化ストレス学会関東支部会
• Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• Original Data Provider (Database): 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 : 量子科学技術研究開発機構 学術機関リポジトリ

• Summary, etc.: 放射線の生物影響を考える上で･OH、O2-、H2O2が重要な役割を演じている。その中で、ヒドロキシルラジカル (･OH) は水の電離を起因として最初に生じる活性酸素種であり、かつ生体内でのラジカル反応の実行役と考えられる。本研究では、水に低LET放射線を照射したときの･OHの生成密度を、 電子常磁性...