低温酸化層脱離によるSi(110)-16×2構造の作製

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Summary, etc.：: Si(110)清浄表面は規則的な一次元ナノ構造を有する16×2再構成構造を形成するため、ナノワイヤー等のテンプレート表面として注目されている。近年ではSi(111)表面のストレス測定からSi表面再構成と表面ストレスとの相関が明らかになりつつあり、さらなるSi(110)表面ストレスの精密測定には数mm...

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Material Type: 文書・図像類
Title: 低温酸化層脱離によるSi(110)-16×2構造の作製
Author/Editor: 鈴木, 翔太
矢野, 雅大
魚住, 雄輝
朝岡, 秀人
山口, 憲司
山口憲司
Author Heading: 鈴木, 翔太
矢野, 雅大
魚住, 雄輝
朝岡, 秀人
山口, 憲司
山口憲司
Publication Date: 2016-12-01
Publication Date (W3CDTF): 2016-12-01
Text Language Code: jpn
Target Audience: 一般
Note (General): 2016 年真空・表面科学合同講演会
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 : 量子科学技術研究開発機構学術機関リポジトリ