溶媒アニーリングによるポリエーテルエーテルケトン膜のモルフォロジー制御と放射線グラフト重合の加速効果

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Summary, etc.：: ポリエーテルエーテルケトン膜を溶媒アニーリングすることで、熱アニーリングとは異なるラメラ周期のモルフォロジー変化が誘導され、放射線グラフト重合の速度及び最大グラフト率が向上することを見出した。(Provided by: 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）)

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Material Type: 文書・図像類
Title: 溶媒アニーリングによるポリエーテルエーテルケトン膜のモルフォロジー制御と放射線グラフト重合の加速効果
Author/Editor: 長谷川, 伸
廣木, 章博
吉村, 公男
ザオ, ユエ
大和田, 謙二
町田, 晃彦
綿貫, 徹
前川, 康成
長谷川伸
廣木章博
吉村公男
ザオユエ
大和田謙二
町田晃彦
綿貫徹
前川康成
Author Heading: 長谷川, 伸
廣木, 章博
吉村, 公男
ザオ, ユエ
大和田, 謙二
町田, 晃彦
綿貫, 徹
前川, 康成
長谷川伸
廣木章博
吉村公男
ザオユエ
大和田謙二
町田晃彦
綿貫徹
前川康成
Publication Date: 2018-09-14
Publication Date (W3CDTF): 2018-09-14
Text Language Code: jpn
Target Audience: 一般
Note (General): 第６７回高分子討論会
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 : 量子科学技術研究開発機構学術機関リポジトリ