高LET粒子線照射で発生するOHラジカルの解析

• Material Type: その他
• Title: 高LET粒子線照射で発生するOHラジカルの解析
• Author/Editor: 盛武, 敬; 田草川, 光子; 上野, 恵美; Ｍａｎｄａ, Ｋａｉｌａｓｈ; 菅沢, 麻美; 安西, 和紀; 盛武 敬; 田草川 光子; 上野 恵美; Ｍａｎｄａ Ｋａｉｌａｓｈ; 菅沢 麻美; 安西 和紀
• Author Heading: 盛武, 敬; 田草川, 光子; 上野, 恵美; Ｍａｎｄａ, Ｋａｉｌａｓｈ; 菅沢, 麻美; 安西, 和紀; 盛武 敬; 田草川 光子; 上野 恵美; Ｍａｎｄａ Ｋａｉｌａｓｈ; 菅沢 麻美; 安西 和紀
• Publication Date: 2006-09-08
• Publication Date (W3CDTF): 2006
• Target Audience: 一般
• Note (General): 日本放射線影響学会第49回大会
• Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• Original Data Provider (Database): 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 : 量子科学技術研究開発機構 学術機関リポジトリ

• Summary, etc.: 水の放射線分解で発生するラジカルによる生体への作用を間接作用と呼んでおり、なかでもヒドロキシルラジカル（OH・）がもっとも反応性に富み、組織傷害性が強いと考えられている。本研究では高LET粒子線照射で発生するOH・のLET依存性、温度依存性、酸素依存性について検討することを目的とした。 200mMの...