EUV光源用ターゲットのアブレーションにおける気泡、粒子の生成過程

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Summary, etc.：: 次世代半導体リソグラフィ技術のためのレーザー生成プラズマEUV光源において、プリパルスレーザー照射でSn液滴ターゲットを粒子に分散する過程の最適化のために行っている、加熱された液滴が溶融、蒸発する際の構造形成の物理モデル、数値シミュレーション手法の研究について報告した。メッシュの動的再配置および熱平...

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Material Type: 文書・図像類
Title: EUV光源用ターゲットのアブレーションにおける気泡、粒子の生成過程
Author/Editor: 佐々木, 明
佐々木明
砂原淳
西原功修
佐々木明
Author Heading: 佐々木, 明
佐々木明
砂原淳
西原功修
佐々木明
Publication Date: 2017-03-20
Publication Date (W3CDTF): 2017-03-20
Text Language Code: jpn
Target Audience: 一般
Note (General): 日本物理学会第72回年次大会
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 : 量子科学技術研究開発機構学術機関リポジトリ