溶媒アニーリングによるポリエーテルエーテルケトン膜のモルフォロジー

• Material Type: 文書・図像類
• Title: 溶媒アニーリングによるポリエーテルエーテルケトン膜のモルフォロジー
• Author/Editor: 長谷川, 伸; 廣木, 章博; 吉村, 公男; ザオ, ユエ; 大和田, 謙二; 町田, 晃彦; 綿貫, 徹; 前川, 康成; Hasegawa, Shin; Hiroki, Akihiro; Yoshimura, Kimio; Zhao, Yue; Owada, Kenji; Machida, Akihiko; Watanuki, Tetsu; Maekawa, Yasunari
• Author Heading: 長谷川, 伸; 廣木, 章博; 吉村, 公男; ザオ, ユエ; 大和田, 謙二; 町田, 晃彦; 綿貫, 徹; 前川, 康成; Hasegawa, Shin; Hiroki, Akihiro; Yoshimura, Kimio; Zhao, Yue; Owada, Kenji; Machida, Akihiko; Watanuki, Tetsu; Maekawa, Yasunari
• Publication Date: 2018-12-12
• Publication Date (W3CDTF): 2018-12-12
• Text Language Code: jpn
• Target Audience: 一般
• Note (General): QST高崎サイエンスフェスタ2018
• Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• Original Data Provider (Database): 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 : 量子科学技術研究開発機構 学術機関リポジトリ

• Summary, etc.: 放射線グラフト重合は、高分子基材の性質を保持したまま、新たな機能を付与できるのが特徴である。高温での使用が想定される高分子機能性膜の作製には、耐熱性や機械特性に優れたポリエーテルエーテルケトン(PEEK)は、有望な基材膜となる。これまでの研究から、PEEK 基材膜を前処理：ジビニルベンゼン (DVB...