Micro-meter-scaled fluorescent defect formation in wide bandgap semiconductor by utilizing proton/particle beam writing technique

• Material Type: 文書・図像類
• Title: Micro-meter-scaled fluorescent defect formation in wide bandgap semiconductor by utilizing proton/particle beam writing technique
• Author/Editor: W., Kada(群大); M., Haruyama(群大); H., Higuchi(群大); Y., Suda(群大); Ishii, Yasuyuki; Onoda, Shinobu; Ohshima, Takeshi; Miura, K.; O., Hanaizumi(群大)
• Author Heading: W., Kada(群大); M., Haruyama(群大); H., Higuchi(群大); Y., Suda(群大); Ishii, Yasuyuki; Onoda, Shinobu; Ohshima, Takeshi; Miura, K.; O., Hanaizumi(群大)
• Publication Date: 2020-09-14
• Publication Date (W3CDTF): 2020-09-14
• Text Language Code: eng
• Target Audience: 一般
• Note (General): 7th International Conference on Nuclear Microprobe Technology and Applications (ICNMTA2020)
• Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• Original Data Provider (Database): 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 : 量子科学技術研究開発機構 学術機関リポジトリ

• Summary, etc.: イオンマイクロビームを用いた描画技術（Particle Beam Writing: PBW）により、ワイドバンドギャップ半導体中蛍光欠陥をマイクロメートルスケールで配列する技術について講演する。講演では、プロトンマイクロビームを用いたPBWにより製作したダイヤモンド内の二次元・三次元的な配列の蛍光欠...