重イオンビーム照射におけるデバイ遮蔽の生成過程

Notes on use

Detailed bibliographic record

Summary, etc.：: 重イオンビームが物質に照射されると衝突電離により入射イオンの軌道上に多くの分子イオンと二次電子が発生する。ここで発生した分子イオンは強い電場が作るが、この電場に遅い二次電子は捕獲され、分子イオンの周りに集まる。これらの電子は分子イオンの電場を遮蔽する。この遮蔽のことをデバイ遮蔽という。本講演では、こ...

Search by Bookstore

This page shows libraries in Japan other than the National Diet Library that hold the material.

Please contact your local library for information on how to use materials or whether it is possible to request materials from the holding libraries.

other

QST-Repository
Paper
You can check the holdings of institutions and databases with which Institutional Repositories DataBase(IRDB)(Institutional Repository) is linked at the site of Institutional Repositories DataBase(IRDB)(Institutional Repository).
QST-Repository

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Material Type: 文書・図像類
Title: 重イオンビーム照射におけるデバイ遮蔽の生成過程
Author/Editor: 森林, 健悟
Kengo, Moribayashi
Author Heading: 森林, 健悟
Kengo, Moribayashi
Publication Date: 2021-03-12
Publication Date (W3CDTF): 2021-03-12
Text Language Code: jpn
Target Audience: 一般
Note (General): 日本物理学会第76回年次大会
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 : 量子科学技術研究開発機構学術機関リポジトリ