溶媒アニールによるポリエーテルエーテルケトン膜のモルフォロジー制御と 放射線グラフト重合反応加速機構

• Material Type: 文書・図像類
• Title: 溶媒アニールによるポリエーテルエーテルケトン膜のモルフォロジー制御と 放射線グラフト重合反応加速機構
• Author/Editor: 長谷川, 伸; 廣木, 章博; 吉村, 公男; ザオ, ユエ; 町田, 晃彦; 大和田, 謙二; 前川, 康成; Shin, Hasegawa; Akihiro, Hiroki; Kimio, Yoshimura; Zhao, Yue; Akihiko, Machida; Kenji, Ohwada; Yasunari, Maekawa
• Author Heading: 長谷川, 伸; 廣木, 章博; 吉村, 公男; ザオ, ユエ; 町田, 晃彦; 大和田, 謙二; 前川, 康成; Shin, Hasegawa; Akihiro, Hiroki; Kimio, Yoshimura; Zhao, Yue; Akihiko, Machida; Kenji, Ohwada; Yasunari, Maekawa
• Publication Date: 2020-09-18
• Publication Date (W3CDTF): 2020-09-18
• Text Language Code: jpn
• Target Audience: 一般
• Note (General): 第69回高分子討論会
• Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• Original Data Provider (Database): 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 : 量子科学技術研究開発機構 学術機関リポジトリ

• Summary, etc.: 放射線グラフト重合を利用した機能性高分子膜の作製では、基材の物性・形状を保ちながら新たな機能を付与できるため、耐熱性および機械特性に優れたポリエーテルエーテルケトン(PEEK)等の芳香族炭化水素高分子が有力な基材候補として挙げられる。一方、芳香族炭化水素高分子は、その優れた耐薬品性により、機能性モノ...