高温電子線照射によるナノダイヤモンドへのNVセンタ形成

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Summary, etc.：: より高輝度・高濃度のNVセンタを含有する蛍光ナノダイヤモンド（FNDs）を形成することを目的とし、高効率なNVセンタ形成のために電子線照射による高発光強度FNDs形成を目指している。一方で電子線照射及び熱処理条件の最適化を進めており、本報告はその照射モード（高温・室温）の違いによりう形成させたFND...

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Material Type: その他
Title: 高温電子線照射によるナノダイヤモンドへのNVセンタ形成
Author/Editor: 阿部, 浩之
佐伯, 誠一
大島, 武
Hiroshi, Abe
Seiichi, Saiki
Takeshi, Ohshima
Author Heading: 阿部, 浩之
佐伯, 誠一
大島, 武
Hiroshi, Abe
Seiichi, Saiki
Takeshi, Ohshima
Publication Date: 2021-09-12
Publication Date (W3CDTF): 2021
Target Audience: 一般
Note (General): 2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 : 量子科学技術研究開発機構学術機関リポジトリ