Development of Laser Doping at Room Temperature for Crystalline Silicon Solar Cell Fabrication Process

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Development of Laser Doping at Room Temperature for Crystalline Silicon Solar Cell Fabrication Process

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Material Type: 博士論文
Title: Development of Laser Doping at Room Temperature for Crystalline Silicon Solar Cell Fabrication Process
Author/Editor: 平田, 憲司
Author Heading: 平田, 憲司ヒラタ, ケンジ
Publication, Distribution, etc.: Nara Institute of Science and Technology
Publication Date: 2012-03-23
Publication Date (W3CDTF): 2012-03-23
Alternative Title: 結晶シリコン太陽電池作製プロセスに向けた室温レーザードーピングの開発
ケッショウシリコンタイヨウデンチサクセイプロセスニムケタシツオンレーザードーピングノカイハツ
Degree grantor/type: 奈良先端科学技術大学院大学
Date Granted: 2012-03-23
Dissertation Number: 甲第1075号
Degree Type: 博士(工学)
Text Language Code: eng
Subject Heading: Crystalline Silicon Solar Cells
Laser Doping
Room Temparature
Fabrication Process
High Efficiency
Target Audience: 一般
DOI: 10.34413/dr.01075
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 奈良先端科学技術大学院大学 : 奈良先端科学技術大学院大学学術リポジトリnaistar