Oxide Semiconductor Thin Film Transistors with High-K Dielectric Material Fabricated by Solution Process

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Oxide Semiconductor Thin Film Transistors with High-K Dielectric Material Fabricated by Solution Process

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Material Type: 博士論文
Title: Oxide Semiconductor Thin Film Transistors with High-K Dielectric Material Fabricated by Solution Process
Author/Editor: 呂, 莉
Author Heading: 呂, 莉ロ, リ
Publication, Distribution, etc.: Nara Institute of Science and Technology
Publication Date: 2013-03-22
Publication Date (W3CDTF): 2013-03-22
Alternative Title: 溶液プロセスによる高誘電率材料を用いた酸化物系薄膜トランジスタの作製
ヨウエキプロセスニヨルコウユウデンリツザイリョウオモチイタサンカブツケイハクマクトランジスタノサクセイ
Degree grantor/type: 奈良先端科学技術大学院大学
Date Granted: 2013-03-22
Dissertation Number: 甲第1145号
Degree Type: 博士(工学)
Text Language Code: eng
Subject Heading: Oxide semiconductor thin film transistor
High-k dielectric material
Solution process
Low temperature
High performance
Target Audience: 一般
DOI: 10.34413/dr.01145
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 奈良先端科学技術大学院大学 : 奈良先端科学技術大学院大学学術リポジトリnaistar