X線リソグラフィにおけるマスク高精度化とレジストパターン形成メカニズムの解明

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Material Type: 博士論文
Title: X線リソグラフィにおけるマスク高精度化とレジストパターン形成メカニズムの解明
Title Transcription: エックスセンリソグラフィニオケルマスクコウセイドカトレジストパターンケイセイメカニズムノカイメイ
Author/Editor: 吉瀬, 幸司
Author Heading: 吉瀬, 幸司キセ, コウジ
Publication, Distribution, etc.: 奈良先端科学技術大学院大学
Publication Date: 2004-03-24
Publication Date (W3CDTF): 2004-03-24
Degree grantor/type: 奈良先端科学技術大学院大学
Date Granted: 2004-03-24
Dissertation Number: 甲第425号
Degree Type: 博士(工学)
Text Language Code: jpn
Subject Heading: X線リソグラフィ
マスク
光電子
オージェ電子
レジスト
高精度
Target Audience: 一般
Access Restrictions: 限定公開
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 奈良先端科学技術大学院大学 : 奈良先端科学技術大学院大学学術リポジトリnaistar