X線リソグラフィにおけるマスクパターン欠陥の転写特性と解像性の向上に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: X線リソグラフィにおけるマスクパターン欠陥の転写特性と解像性の向上に関する研究
Title Transcription: エックスセンリソグラフィニオケルマスクパターンケッカンノテンシャトクセイトカイゾウセイノコウジョウニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 渡邊, 寛
Author Heading: 渡邊, 寛ワタナベ, ヒロシ
Publication, Distribution, etc.: 奈良先端科学技術大学院大学
Publication Date: 2004-03-24
Publication Date (W3CDTF): 2004-03-24
Degree grantor/type: 奈良先端科学技術大学院大学
Date Granted: 2004-03-24
Dissertation Number: 甲第426号
Degree Type: 博士(工学)
Text Language Code: jpn
Subject Heading: リソグラフィ
パターン
レジスト
X線
マスク
欠陥
Target Audience: 一般
Access Restrictions: 限定公開
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 奈良先端科学技術大学院大学 : 奈良先端科学技術大学院大学学術リポジトリnaistar