微細構造グラニュラ-膜作製のための基礎的研究

• Material Type: 文書・図像類
• Title: 微細構造グラニュラ-膜作製のための基礎的研究
• Author/Editor: 丹司, 敬義; 木村, 啓子; 田中, 成泰; 室岡, 義栄
• Author Heading: 丹司, 敬義; 木村, 啓子; 田中, 成泰; 室岡, 義栄
• Publication Date: 1998-03
• Publication Date (W3CDTF): 1998-03
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: グラニュラ-膜; 微細磁気構造; 電子ビ-ム加熱; ロ-レンツ電子顕微鏡法; Lorentz microscopy; ロ-レンツ電顕法; electron beam annealing; granular film; 電子線ホログラフィ; fine magnetic structure
• Target Audience: 一般
• Note (General): 科学研究費補助金 研究種目:基盤研究(B)(2) 課題番号:08455142 研究代表者:丹司 敬義 研究期間:1996-1997年度
• Format (IMT): application/pdf
• Source: 08455142.pdf （fulltext）; https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/11180/files/08455142.pdf
• Access Restrictions: インターネット公開
• Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• Original Data Provider (Database): 名古屋大学 : 名古屋大学学術機関リポジトリ

• Summary, etc.: 本研究の目的は、新滋性材料としての近年注目されているグラニュラー磁性薄膜を微細化することにあり、具体的には、非晶質膜中に、数10nmと微細パター ン化したグラニュラー状態の領域の作製を目指した。しかし、そのようの微小な領域の磁化状態を調べる手法は未だ確立されておらず、まず、10nm以下の超微粒子の磁...