化学溶液堆積法による誘電体薄膜の形成と構造制御

Name of awarding university/degree: 京都大学,博士(工学),Doctor of Philosophy (Engineering)

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Material Type: 博士論文
Title: 化学溶液堆積法による誘電体薄膜の形成と構造制御
Author/Editor: Hosokura, Tadasu
Author Heading: Hosokura, Tadasu
Publication, Distribution, etc.: 京都大学 (Kyoto University)
Publication Date: 2012-03-26
Publication Date (W3CDTF): 2012-03-26
Alternative Title: Preparation and structure control of dielectric thin films by chemical solution deposition
Contributor: 平尾, 一之
三浦, 清貴
陰山, 洋
Degree grantor/type: 京都大学
Date Granted: 2012-03-26
Dissertation Number: 乙第12644号
Degree Type: 博士(工学)
Doctor of Philosophy (Engineering)
Text Language Code: eng
Alias of Author: 細倉, 匡
ホソクラ, タダス
Subject Heading: 化学溶液堆積法
誘電体薄膜
チタン酸バリウム
NDC: 500
Target Audience: 一般
DOI: 10.14989/doctor.r12644
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 京都大学 : 京都大学学術情報リポジトリ