高純度窒化ケイ素セラミックスにおける粒界ガラスフイルム層に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: 高純度窒化ケイ素セラミックスにおける粒界ガラスフイルム層に関する研究
Author/Editor: Yoshiya, Masato
Author Heading: Yoshiya, Masato
Publication, Distribution, etc.: Kyoto University
Publication Date: 2000-03-23
Publication Date (W3CDTF): 2000-03-23
Alternative Title: Intergranular Glassy Film in High-Purity Si_3N_4-SiO_2 Ceramics
Contributor: 足立, 裕彦
志賀, 正幸
山口, 正治
Degree grantor/type: 京都大学
Date Granted: 2000-03-23
Dissertation Number: 甲第8323号
Degree Type: 博士(工学)
Doctor of Engineering
Text Language Code: eng
Alias of Author: 吉矢, 真人
ヨシヤ, マサト
NDC: 500
Target Audience: 一般
Format (IMT): application/pdf
Source: ykogk01888.pdf （abstract）
http://repository.kulib.kyoto-u.ac.jp/dspace/bitstream/2433/180926/1/ykogk01888.pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 京都大学 : 京都大学学術情報リポジトリ