シリコン窒化膜の化学構造と電子物性に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: シリコン窒化膜の化学構造と電子物性に関する研究
Author/Editor: 藤田, 靜雄
Author Heading: 藤田, 靜雄フジタ, シズオ
Publication, Distribution, etc.: Kyoto University
Publication Date: 1990-05-23
Publication Date (W3CDTF): 1990-05-23
Alternative Title: CHEMICAL STRUCTURES AND ELECTRONIC PROPERTIES OF SILICON NITRIDE FILMS
Contributor: 佐々木, 昭夫
松波, 弘之
藤田, 茂夫
Degree grantor/type: 京都大学
Date Granted: 1990-05-23
Dissertation Number: 乙第7243号
Degree Type: 工学博士
Text Language Code: eng
NDC: 500
Target Audience: 一般
Note (General): 本文データは国立国会図書館の学位論文(博士)のデジタル化事業により作成された画像ファイルを基にpdf変換したものである
DOI: 10.11501/11393707
Format (IMT): application/pdf
Source: D_Fujita_Shizuo.pdf （fulltext）
http://repository.kulib.kyoto-u.ac.jp/dspace/bitstream/2433/274193/1/D_Fujita_Shizuo.pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 京都大学 : 京都大学学術情報リポジトリ