シリコンの溶解反応における時空間パターン形成に基づいた高規則構造体の作製

Name of awarding university/degree: 京都大学,博士(工学),Doctor of Philosophy (Engineering)

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Material Type: 博士論文
Title: シリコンの溶解反応における時空間パターン形成に基づいた高規則構造体の作製
Author/Editor: 安田, 拓海
Author Heading: 安田, 拓海ヤスダ, タクミ
Publication, Distribution, etc.: Kyoto University
Publication Date: 2023-03-23
Publication Date (W3CDTF): 2023-03-23
Alternative Title: Fabrication of Sophisticated Microstructures Based on Spatiotemporal Pattern Formation in Electrochemical Dissolution of Silicon
Contributor: 邑瀬, 邦明
宇田, 哲也
作花, 哲夫
Degree grantor/type: 京都大学
Date Granted: 2023-03-23
Dissertation Number: 甲第24614号
Degree Type: 博士(工学)
Doctor of Philosophy (Engineering)
Text Language Code: eng
Subject Heading: Wet processing
Silicon
Microstructure
Self-organization
Spatiotemporal pattern formation
NDC: 500
Target Audience: 一般
DOI: 10.14989/doctor.k24614
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Rights (production): 学位規則第9条第2項により要約公開
許諾条件により要約は2024-01-13に公開
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 京都大学 : 京都大学学術情報リポジトリ