材料プロセス工学研究室

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Note (General)：: 研究内容［１］パルスパラメータ可変型磁場援用パルスプラズマ源の開発と環境セル型透過電子顕微鏡用隔膜の開発［２］イオンビームを用いた有機物質表面改質による極薄窒化物隔膜の開発

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Summary, etc.：: 極薄膜の環境セル型透過電子顕微鏡用隔膜をイオンビームやプラズマを用いて開発した。(Provided by: 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）)

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Material Type: 文書・図像類
Title: 材料プロセス工学研究室
Author/Editor: 松谷, 貴臣
Author Heading: 松谷, 貴臣
Alternative Title: Material Process Engineering Lab.
Text Language Code: jpn
Subject Heading: プラズマ
イオンビーム
環境セル型透過電子顕微鏡
隔膜
窒化物薄膜
Plasma
Ion Beam
Environmental-cell Transmission Electron Microscopy
Diaphragm
Nitride Thin Film
Target Audience: 一般
Note (General): 研究内容［１］パルスパラメータ可変型磁場援用パルスプラズマ源の開発と環境セル型透過電子顕微鏡用隔膜の開発［２］イオンビームを用いた有機物質表面改質による極薄窒化物隔膜の開発
Access Restrictions: 限定公開
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 近畿大学 : 近畿大学学術情報リポジトリ