β-ジケトンキレート化学気相成長法を利用した希土類およびアクチノイド化合物合成

• Material Type: 文書・図像類
• Title: β-ジケトンキレート化学気相成長法を利用した希土類およびアクチノイド化合物合成
• Author/Editor: 天野, 良平; Amano, Ryohei
• Author Heading: 天野, 良平; Amano, Ryohei
• Publication, Distribution, etc.: 金沢大学医療技術短期大学部
• Publication Date: 1994-03
• Publication Date (W3CDTF): 1994-03
• Alternative Title: Preparation of lanthanide and actinide compounds by CVD method using volatile beta-diketone chelates
• Periodical title: 平成5(1993)年度 科学研究費補助金 一般研究(C) 研究成果報告書 = 1993 Fiscal Year Final Research Report
• No. or year of volume/issue: 1992-1993
• Volume: 1992-1993
• Pages: 9p.-
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: ランタノイド元素; アクチノイド元素; タリウム化合物; 化学気相析出法; CVD; 微量合成法; 酸化物; フッ化物; lanthanide; actinide; thallium; micro-synthesis; oxide films; chemical vapor deposition(CVD); fluoride films
• Target Audience: 一般
• Note (General): 本研究は、化合物合成法としてβ-ジケトンキレートガスと反応性ガスとの気相反応を用いる化学気相成長法(CVD Chemical Vapor Deposition Method)を利用して、高純度で良質の結晶性の希土類およびアクチノイド固体化合物を得ようとするものである。本研究を通してCVD法を用いて希土類およびアクチノイド元素の高結晶性酸化物、硫化物および窒化物、フッ化物を合成しようとした。さらに本研究では、新たに2成分の金属を含む化合物を、(1)2種類のジピバロイルメタンキレートを利用、(2)昇華性の含2金属ヘキサフロロアセチルアセトンキレートを利用、によってCVD法で合成しようと試みた。その結果、新しいTlLn(hfa)_4型原料キレートおよびTl(dpm)型原料キレートを開発し,CVD原料として利用できるよう方法を確立した。結果を纏めると(1)酸素と水との反応:Tbを除く希土類Lnの場合は合成された化合物は共に酸化物Ln2O3であったが、Tbでは酸素による酸化物はTb4O7、水による酸化物はTb2O3であった。ウランでは酸素による生成物はU3O8の高温相であるのに対して、水との生成物はU4O9であった。(2)硫化水素との反応:生成物は重ランタノイドではオキシ硫化物Ln2O2S、Euでは一硫化物EuSであった。軽ランタノイド、トリウムとの生成物はアモルファス化合物で組成を同定できなかったが、蛍光X線分析の結果金属とイオウが一定の比で存在していることが確認でき、硫化物であることを示唆していた。(3)フレオン12との反応:ランタノイド3価キレートではLnOFとLnF3を分別合成することがわかった。(4)2金属成分化合物:Tlとランタノイドの両方を含む酸化物や硫化物、フッ化物の合成が可能となった。; Volatile metal chelates have been used in a wide of applications as fuel additives and catalysts, as metal vapor sources, and in trace metal analysis.There is growing interest in volatile metal b-diketone chelates as vapor source for chemical vapor deposition(CVD). In this work, we are interested in CVD method using volatile beta-diketone chelates with 2,2,6,6, -tetramethyl-3,5-haptanedione(thd), and developed the new preparation method of the metal oxide, sulfide and fluoride films.(1). Preparation of lanthanide fluoride and chloride films was studied by chemical vapor deposition(CVD) using Ln(thd)_3 (Ln=lanthanide(III) ; thd=2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato ligand) and Y(thd)_3 with gas mixture systems of CF_2Cl_2 (difluorodichloromethane)/O_2 and CF_2Cl_2/H_2.Two kinds of fluorides, LnOF oxyfluoride and LnF_3 trifluoride were obtained separately along a CVD tube by the reaction of Ln(thd)_3 chelates with CF_2Cl_2/O_2 gas system. The chemical characteristics of the CVD products were considered from the points of thermochemical view.(2). We here describe some characteristics of (2,2,6,6, -retramethyl-3,5-heptanedionato) thallium(I), and preliminary experiments in the CVD between this chelate and some reactant gases. The precipitation was isolated by filtration, allowed to dry, and was purified by sublimation in vacuum. In conclusion, the present Tl(thd) chelate is useful and porential as a thallium vapor source for CVD and gas-phase reaction investigations.; 研究課題/領域番号:04640575, 研究期間(年度):1992-1993; 出典：「β-ジケトンキレート化学気相成長法を利用した希土類およびアクチノイド化合物合成」研究成果報告書 課題番号04640575(KAKEN：科学研究費助成事業データベース（国立情報学研究所）) 本文データは著者版報告書より作成
• DOI: 10.24517/00049269
• Source: https://kanazawa-u.repo.nii.ac.jp/?action=repository_action_common_download&item_id=42920&item_no=1&attribute_id=26&file_no=1
• Access Restrictions: 限定公開
• Rights (production): CC BY-NC-ND
• Related Material: https://kaken.nii.ac.jp/search/?qm=30111769; https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-04640575/; https://kaken.nii.ac.jp/report/KAKENHI-PROJECT-04640575/046405751993kenkyu_seika_hokoku_gaiyo/
• Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• Original Data Provider (Database): 金沢大学 : 金沢大学学術情報リポジトリKURA