窒素スカベンジャーを利用した不純物共堆積膜中への水素同位体吸蔵の制御

Material type: 文書・図像類

Author: 上杉, 喜彦ほか

Publisher: 金沢大学理工研究域電子情報通信学系

Publication date: 2019-06-18

Material Format: Digital

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NDC: -

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Note (General)：: 本研究では，核融合炉の遠隔領域における不純物再堆積過程と水素粒子の共堆積膜形成を模擬できる実験系を整備し，生成膜中に吸蔵される水素粒子量を評価・分析することで，水素同位体吸蔵を抑制する手法の開発を行い以下の成果を得た．(1)SUS304を不純物源とした場合、水素プラズマ中にガス不純物として窒素やメタ...

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Material Type: 文書・図像類
Title: 窒素スカベンジャーを利用した不純物共堆積膜中への水素同位体吸蔵の制御
Author/Editor: 上杉, 喜彦
Uesugi, Yoshihiko
Author Heading: 上杉, 喜彦
Uesugi, Yoshihiko
Publication, Distribution, etc.: 金沢大学理工研究域電子情報通信学系
Publication Date: 2019-06-18
Publication Date (W3CDTF): 2019-06-18
Alternative Title: Suppression of Hydrogen Isotope Absorption into Co-deposited Layer by using Nitrogen Scavenger
Periodical title: 平成30(2018)年度科学研究費補助金基盤研究(B) 研究成果報告書 = 2018 Fiscal Year Final Research Report
No. or year of volume/issue: 2016-04-01 - 2019-03-31
Volume: 2016-04-01 - 2019-03-31
Pages: 4p.-
Text Language Code: jpn
Subject Heading: 制御熱核融合
プラズマー壁相互作用
トリチウム吸蔵
レーザ誘起ブレイクダウン分光法
不純物共堆積膜
核融合周辺プラズマ
不純物制御
Target Audience: 一般
Note (General): 本研究では，核融合炉の遠隔領域における不純物再堆積過程と水素粒子の共堆積膜形成を模擬できる実験系を整備し，生成膜中に吸蔵される水素粒子量を評価・分析することで，水素同位体吸蔵を抑制する手法の開発を行い以下の成果を得た．(1)SUS304を不純物源とした場合、水素プラズマ中にガス不純物として窒素やメタンを導入しHCN/DCNやNHx/NDx等の揮発性ガス分子を生成することが共堆積膜中の水素吸蔵量を低減することに有効であることを示した．(2)窒素不純物を導入した場合，タングステン共堆積膜では表面に窒化タングステン層による拡散障壁バリアー層が形成される事が原因と考えられる水素吸蔵量の増加が見られた．
Nitrogen addition into remote edge plasmas has been considered and tested as an effective method for suppression of carbon film deposition and reduction of hydrogen isotope absorption in the deposited films. The effects of nitrogen addition on the hydrogenated carbon film deposition and hydrogen isotope absorption, “scavenger effect”, were studied using toroidal rf plasmas with D-C-N reactive species with metal impurities, such as Fe and W. Main results are summarized as follows, (1)In the case of stainless steel materials as an impurity source, simultaneous addition of C and N as scavenger particles works well to reduce the H/D absorption effectively by generating volatile HCN/DCN and NHx/NDx molecular particles, (2)When N is introduced on to tungsten co-deposited films, the amount of H/D absorption increased due to the surface barrier formation on the W films by Tungsten nitride formation on the surface.
研究課題/領域番号:16H04618, 研究期間(年度):2016-04-01 - 2019-03-31
出典：「窒素スカベンジャーを利用した不純物共堆積膜中への水素同位体吸蔵の制御」研究成果報告書　課題番号16H04618（KAKEN：科学研究費助成事業データベース（国立情報学研究所））（https://kaken.nii.ac.jp/report/KAKENHI-PROJECT-16H04618/16H04618seika/）を加工して作成
DOI: 10.24517/00054055
Source: https://kanazawa-u.repo.nii.ac.jp/?action=repository_action_common_download&item_id=47732&item_no=1&attribute_id=26&file_no=1
https://kanazawa-u.repo.nii.ac.jp/?action=repository_action_common_download&item_id=47732&item_no=1&attribute_id=26&file_no=1
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Rights (production): CC BY-NC-ND
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https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-16H04618/
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Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
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Original Data Provider (Database): 金沢大学 : 金沢大学学術情報リポジトリKURA