超高真空中におけるSi(001)表面へのCH3Clの化学吸着

• Material Type: 文書・図像類
• Title: 超高真空中におけるSi(001)表面へのCH3Clの化学吸着
• Author/Editor: 今中 壮一; 岡田 美智雄; 笠井 俊夫; 寺岡 有殿; 吉越 章隆
• Author Heading: 今中 壮一; 岡田 美智雄; 笠井 俊夫; 寺岡 有殿; 吉越 章隆
• Publication Date: 2003-08
• Publication Date (W3CDTF): 2003-08
• Alternative Title: Chemisorption of CH3Cl on Si(001) surface under UHV condition
• Periodical title: JAERI-Tech 2003-066
• Text Language Code: jpn
• Target Audience: 一般
• Note (General): Si(001)表面と有機分子との反応は、LSI, 分子素子, センサー, 非線形光学材料, 触媒, コーティングや防腐食など非常に幅広い応用が期待されていることから、多くの研究がなされている。なかでも、CH$_{3}$Clの解離吸着反応は、ダイヤモンド薄膜やシリコンカーバイド薄膜の生成に関して重要となる。解離吸着のメカニズムを完全に解明するうえでは衝突CH$_{3}$Clの分子配向を制御した研究が必要となってくる。その基礎研究として、超高真空下における清浄なSi(001)表面へのCH$_{3}$Clの吸着の様子を走査型トンネル顕微鏡(STM)を用いて観察した。その結果、Si(001)表面上へのCH$_{3}$Clの解離吸着は、CH$_{3}$Cl(g)$\rightarrow$CH$_{3}$(a)+Cl(a), CH$_{3}$Cl(g)$\rightarrow$CH$_{3}$(a)+Cl(g)の2つの経路を経由することがわかった。; The reactions of organic molecules with a Si(001) surface play important roles in many applied fields such as LSI, molecular device, sensor, non-liner optical materials, catalysis, coating, preservation from decay, and so on. Especially, the dissociative adsorption of CH$_{3}$Cl is an important initial process in the production of diamond and silicon carbide thin films. However, it is required to control the orientation of CH$_{3}$Cl for the elucidation of the detailed mechanism of the dissociative adsorption. In the present experiments, we studied the dissociative adsorption of CH$_{3}$Cl on a clean Si(001) surface under ultra-high vacuum using Scanning Tunneling Microscopy (STM). We found, for the first time, that there are two reaction passes of CH$_{3}$Cl(g) to CH$_{3}$(a)+Cl(a) and CH$_{3}$Cl(g) to CH$_{3}$(a)+Cl(g) in the dissociative adsorption of CH$_{3}$Cl on the Si{001} surface.
• Source: /JAERI-Tech-2003-066.pdf （fulltext）; https://jopss.jaea.go.jp/pdfdata/JAERI-Tech-2003-066.pdf
• Access Restrictions: 限定公開
• Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• Original Data Provider (Database): 日本原子力研究開発機構 : JOPSS:JAEA Originated Papers Searching System

• Summary, etc.: Si(001)表面と有機分子との反応は、LSI, 分子素子, センサー, 非線形光学材料, 触媒, コーティングや防腐食など非常に幅広い応用が期待されていることから、多くの研究がなされている。なかでも、CH$_{3}$Clの解離吸着反応は、ダイヤモンド薄膜やシリコンカーバイド薄膜の生成に関して重要と...