DV-Xalpha法による硝酸ウラニル錯体の電子状態に関する研究(IV)

• Material Type: 文書・図像類
• Title: DV-Xalpha法による硝酸ウラニル錯体の電子状態に関する研究(IV)
• Author/Editor: 小田 好博; 船坂 英之; 足立 裕彦
• Author Heading: 小田 好博; 船坂 英之; 足立 裕彦
• Publication Date: 1999-03
• Publication Date (W3CDTF): 1999-03
• Alternative Title: None
• Periodical title: JNC TY8400 99-006
• Text Language Code: jpn
• Target Audience: 一般
• Note (General): 硝酸ウラニルと水分子あるいはリン酸トリブチル系配位子からなる錯体について、相対論的DV-X$\alpha$法による電子状態計算を行い、最も安定な結合距離及び錯体の対称性について解析を行った。その結果、結合距離を約1{\AA}大きく見積もることが示された。またTBP系配位子の枝数の結合強度への影響を併せて解析した結果、tertialが最も強く結合し、以下secondary, iso, normalの順に弱くなることが示された。これらの結果と最高被占軌道等の分子軌道の形状から配位子のウラニルイオンとの結合様式に関する解析及び新しい計算モデルを作成した。また、本年度は共同研究の最終年度としての取りまとめを行った。
• Source: /JNC-TY8400-99-006.pdf （fulltext）; https://jopss.jaea.go.jp/pdfdata/JNC-TY8400-99-006.pdf
• Access Restrictions: 限定公開
• Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• Original Data Provider (Database): 日本原子力研究開発機構 : JOPSS:JAEA Originated Papers Searching System

• Summary, etc.: 硝酸ウラニルと水分子あるいはリン酸トリブチル系配位子からなる錯体について、相対論的DV-X$\alpha$法による電子状態計算を行い、最も安定な結合距離及び錯体の対称性について解析を行った。その結果、結合距離を約1{\AA}大きく見積もることが示された。またTBP系配位子の枝数の結合強度への影響を併...