n型結晶シリコン用高品質Cat-CVD窒化シリコンパッシベーション層の開発とその裏面コンタクト結晶シリコン太陽電池への応用

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Material Type: 博士論文
Title: n型結晶シリコン用高品質Cat-CVD窒化シリコンパッシベーション層の開発とその裏面コンタクト結晶シリコン太陽電池への応用
Author/Editor: Trinh, Thi Cham
Author Heading: Trinh, Thi Cham
Publication Date: 2015-03
Publication Date (W3CDTF): 2015-03
Degree grantor/type: 北陸先端科学技術大学院大学
Date Granted: 2015-03-20
Dissertation Number: 甲第866号
Degree Type: 博士（マテリアルサイエンス）
Text Language Code: eng
Subject Heading: Catalytic chemical vapor deposition (Cat-CVD)
Phosphorus Cat-doping
surface recombination velocity
silicon nitride (SiNx)
passivation quality
Target Audience: 一般
Note (General): Supervisor:大平　圭介
マテリアルサイエンス研究科
博士
identifier:https://dspace.jaist.ac.jp/dspace/handle/10119/12772
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 北陸先端科学技術大学院大学 : JAIST学術研究成果リポジトリ