超高真空処理・ウェット処理したシリコン表面の水および原子状水素との反応性の研究

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Material Type: 博士論文
Title: 超高真空処理・ウェット処理したシリコン表面の水および原子状水素との反応性の研究
Author/Editor: 宮城, 友昭
Author Heading: 宮城, 友昭
Publication Date: 2015-06
Publication Date (W3CDTF): 2015-06
Degree grantor/type: 北陸先端科学技術大学院大学
Date Granted: 2015-06-24
Dissertation Number: 甲第879号
Degree Type: 博士（マテリアルサイエンス）
Text Language Code: jpn
Subject Heading: silicon surface
nc-AFM
wettability
atomic hydrogen
Target Audience: 一般
Note (General): Supervisor:富取　正彦
マテリアルサイエンス研究科
博士
identifier:https://dspace.jaist.ac.jp/dspace/handle/10119/12875
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 北陸先端科学技術大学院大学 : JAIST学術研究成果リポジトリ