Jump to main content
文書・図像類

半導体デバイス製造のウエットプロセスにおける帯電・放電現象の解明とその対策

Icons representing 文書・図像類

半導体デバイス製造のウエットプロセスにおける帯電・放電現象の解明とその対策

Material type
文書・図像類
Author
清家, 善之ほか
Publisher
愛知工業大学
Publication date
2020-11
Material Format
Digital
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
View All

Notes on use

Note (General):

identifier:http://repository.aitech.ac.jp/dspace/handle/11133/3752

Search by Bookstore

Holdings of Libraries in Japan

This page shows libraries in Japan other than the National Diet Library that hold the material.

Please contact your local library for information on how to use materials or whether it is possible to request materials from the holding libraries.

other

  • AIT Associated Repository of Academic Resources

    Digital
    You can check the holdings of institutions and databases with which Institutional Repositories DataBase(IRDB)(Institutional Repository) is linked at the site of Institutional Repositories DataBase(IRDB)(Institutional Repository).

Bibliographic Record

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Digital

Material Type
文書・図像類
Author/Editor
清家, 善之
森, 竜雄
五島, 敬史郎
門村, 新吾
日永, 康博
窪, 慎二
川畑, 隆広
岩元, 勇人
萩本, 賢哉
齋藤, 卓
Publication, Distribution, etc.
Publication Date
2020-11
Publication Date (W3CDTF)
2020-11
Alternative Title
ハンドウタイ デバイス セイゾウ ノ ウエット プロセス ニオケル タイデン ホウデン ゲンショウ ノ カイメイ ト ソノ タイサク
Periodical title
総合技術研究所研究報告=Bulletin of Research Institute for Industrial Technology.
No. or year of volume/issue
22