半導体デバイス製造のウエットプロセスにおける帯電・放電現象の解明とその対策

Material type: 文書・図像類

Author: 清家, 善之ほか

Publisher: 愛知工業大学

Publication date: 2022-10

Material Format: Digital

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Material Type: 文書・図像類
Title: 半導体デバイス製造のウエットプロセスにおける帯電・放電現象の解明とその対策
Author/Editor: 清家, 善之
森, 竜雄
五島, 敬史郎
日永, 康博
窪, 慎二
川畑, 隆広
渡邊, 久倫
岩元, 勇人
萩本, 賢哉
齋藤, 卓
Author Heading: 清家, 善之
森, 竜雄
五島, 敬史郎
日永, 康博
窪, 慎二
川畑, 隆広
渡邊, 久倫
岩元, 勇人
萩本, 賢哉
齋藤, 卓
Publication, Distribution, etc.: 愛知工業大学
Publication Date: 2022-10
Publication Date (W3CDTF): 2022-10
Alternative Title: ハンドウタイデバイスセイゾウノウエットプロセスニオケルタイデン・ホウデンゲンショウノカイメイトソノタイサク
Periodical title: 総合技術研究所研究報告=Bulletin of Research Institute for Industrial Technology.
No. or year of volume/issue: 24
Volume: 24
Pages: 10-11
ISSN (Periodical Title): ISSN : 1344-9672
Text Language Code: jpn
Subject Heading: 半導体洗浄
磁場
二流体スプレー
静電気障害（ESD）
Target Audience: 一般
Note (General): identifier:http://repository.aitech.ac.jp/dspace/handle/11133/4123
Source: http://repository.aitech.ac.jp/dspace/bitstream/11133/4123/3/%e7%b7%8f%e7%a0%9424%e5%8f%b7%e3%83%97%e3%83%ad%e3%82%b8%e3%82%a7%e3%82%af%e3%83%88%e5%85%b1%e5%90%8c%e7%a0%94%e7%a9%b6%e6%88%90%e6%9e%9c%e6%a6%82%e8%a6%8103%28p10-11%29.pdf
http://repository.aitech.ac.jp/dspace/bitstream/11133/4123/3/%e7%b7%8f%e7%a0%9424%e5%8f%b7%e3%83%97%e3%83%ad%e3%82%b8%e3%82%a7%e3%82%af%e3%83%88%e5%85%b1%e5%90%8c%e7%a0%94%e7%a9%b6%e6%88%90%e6%9e%9c%e6%a6%82%e8%a6%8103%28p10-11%29.pdf
Access Restrictions: 限定公開
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 愛知工業大学 : 愛知工業大学学術情報リポジトリ