博士論文

Characterization and low temperature annealing of ion-implanted semiconductors

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Characterization and low temperature annealing of ion-implanted semiconductors

Call No. (NDL)
UT51-59-C40
Bibliographic ID of National Diet Library
000000193125
Material type
博士論文
Author
六倉信喜 [著]
Publisher
-
Publication date
-
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
Name of awarding university/degree
東京電機大学,工学博士
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博士論文

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Paper

Material Type
博士論文
Author/Editor
六倉信喜 [著]
Author Heading
六倉, 信喜 ムツクラ, ノブキ
Extent
Alternative Title
イオン・インプランテーションをした半導体の特性と低温度熱処理 イオン インプランテーション オ シタ ハンドウタイ ノ トクセイ ト テイオンド ネツ ショリ
Degree grantor/type
東京電機大学
Date Granted
昭和59年3月9日
Date Granted (W3CDTF)
1984
Dissertation Number
甲第9号