X-Ray Mask Materials and Fabrication Technologies for 100 nm and Below Proximity X-Ray Lithography

• Material Type: 博士論文
• Title: X-Ray Mask Materials and Fabrication Technologies for 100 nm and Below Proximity X-Ray Lithography
• Author/Editor: Yoshihisa Iba [著]
• Author Heading: 射場, 義久 イバ, ヨシヒサ
• Publication, Distribution, etc.: [Yoshihisa Iba]
• Publication Date: 2001
• Publication Date (W3CDTF): 2001
• Extent: 1冊
• Alternative Title: パターン寸法100ナノメートル以下の近接X線露光法のためのX線マスク材料および作製技術 パターン スンポウ 100 ナノ メートル イカ ノ キンセツ Xセン ロコウホウ ノ タメ ノ Xセン マスク ザイリョウ オヨビ サクセイ ギジュツ
• Degree grantor/type: 大阪府立大学
• Date Granted: 平成13年10月31日
• Date Granted (W3CDTF): 2001
• Dissertation Number: 乙第1049号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2001-P369
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000410847; http://id.ndl.go.jp/bib/000000410847
• Bibliographic Record Category (NDL): 213