プラズマプロセシング : ASETを見学しながら

• Material Type: 図書
• Title: プラズマプロセシング : ASETを見学しながら
• Title Transcription: プラズマ プロセシング : ASET オ ケンガクシナガラ
• Author/Editor: 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 編
• Author Heading: 応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: 東京 : 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
• Publication Date: 1999.1
• Publication Date (W3CDTF): 1999
• Extent: 106p
• Size: 26cm
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: プラズマ--会議録 プラズマ カイギロク ( 00761387 )Authorities
• NDC 9th ed.: 427.6 : Electricity and magnetism
• NDLC: MC241
• Target Audience: 一般
• Note (General): 第10回プラズマエレクトロニクス講習会テキスト
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: MC241-G11
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000002762104; http://id.ndl.go.jp/bib/000002762104
• National Bibliography No. (JPNO): 20005894
• Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

Table of Contents

目次

第1章 次世代デバイス用プラズマCVDプロセスの現状と課題 五味秀樹（NEC・ULSIデバイス研究所）/ 1ー18

第2章 次世代デバイス用エッチングプロセスの課題 宮武浩（三菱電機・ULSI技術開発センター）/ 19ー34

第3章 非平衡プラズマのモデリング 真壁利明（慶応大学・理工学部）/ 35ー58

第4章 プラズマ装口におけるダスト発生とピュリフィケーション 渡辺征夫（九州大学・大学院）/ 59ー72