半導体製造用プロセスガスの高精度供給技術に関する研究

半導体製造用プロセスガスの高精度供給技術に関する研究

Call No. (NDL): UT51-2002-M611
Bibliographic ID of National Diet Library: 000003544053

Material type: 博士論文

Author: 永瀬正明 [著]

Publisher: [永瀬正明]

Publication date: [2002]

Material Format: Paper

Capacity, size, etc.: 1冊

Name of awarding university/degree: 東北大学,博士 (工学)

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Note (General)：: 博士論文

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Paper

Material Type: 博士論文
Title: 半導体製造用プロセスガスの高精度供給技術に関する研究
Title Transcription: ハンドウタイセイゾウヨウプロセスガスノコウセイドキョウキュウギジュツニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 永瀬正明 [著]
Author Heading: 永瀬, 正明ナガセ, マサアキ
Publication, Distribution, etc.: [永瀬正明]
Publication Date: [2002]
Publication Date (W3CDTF): 2002
Extent: 1冊
Degree grantor/type: 東北大学
Date Granted: 平成14年3月25日
Date Granted (W3CDTF): 2002
Dissertation Number: 甲第8519号
Degree Type: 博士 (工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2002-M611
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000003544053
http://id.ndl.go.jp/bib/000003544053
Bibliographic Record Category (NDL): 213