放射光X線回折法による極薄膜SOI(Silicon on Insulator)ウエーハの構造評価に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: 放射光X線回折法による極薄膜SOI(Silicon on Insulator)ウエーハの構造評価に関する研究
Title Transcription: ホウシャコウ Xセンカイセツホウニヨルキョクハクマク SOI Silicon on Insulator ウエーハノコウゾウヒョウカニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 福田一徳 [著]
Author Heading: 福田, 一徳フクダ, カズノリ
Publication, Distribution, etc.: [福田一徳]
Publication Date: 2002
Publication Date (W3CDTF): 2002
Extent: 1冊
Degree grantor/type: 大阪大学
Date Granted: 平成15年3月25日
Date Granted (W3CDTF): 2003
Dissertation Number: 甲第9157号
Degree Type: 博士 (工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2003-E610
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000004137141
http://id.ndl.go.jp/bib/000004137141
Bibliographic Record Category (NDL): 213