Si基板上への気相エピタキシャル成長法による窒化物半導体の結晶成長に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: Si基板上への気相エピタキシャル成長法による窒化物半導体の結晶成長に関する研究
Title Transcription: Si キバンジョウエノキソウエピタキシャルセイチョウホウニヨルチッカブツハンドウタイノケッショウセイチョウニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 本田善央 [著]
Author Heading: 本田, 善央ホンダ, ヨシオ
Publication, Distribution, etc.: [本田善央]
Publication Date: [2003]
Publication Date (W3CDTF): 2003
Extent: 1冊
Degree grantor/type: 名古屋大学
Date Granted: 平成15年3月25日
Date Granted (W3CDTF): 2003
Dissertation Number: 甲第5847号
Degree Type: 博士 (工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2003-G244
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000004178017
http://id.ndl.go.jp/bib/000004178017
Bibliographic Record Category (NDL): 213