Studies on low dielectric film process using high-density plasma

• Material Type: 博士論文
• Title: Studies on low dielectric film process using high-density plasma
• Author/Editor: Hisao Nagai [著]
• Author Heading: 永井, 久雄 ナガイ, ヒサオ
• Publication, Distribution, etc.: [Hisao Nagai]
• Publication Date: 2003
• Publication Date (W3CDTF): 2003
• Extent: 1冊
• Alternative Title: 高密度プラズマを用いた低誘電率膜プロセスに関する研究 コウミツド プラズマ オ モチイタ テイユウデンリツ マク プロセス ニ カンスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 名古屋大学
• Date Granted: 平成15年3月25日
• Date Granted (W3CDTF): 2003
• Dissertation Number: 甲第5874号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2003-G271
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000004178267; http://id.ndl.go.jp/bib/000004178267
• Bibliographic Record Category (NDL): 213