極薄ゲート絶縁膜/シリコン界面における化学結合状態と電子状態に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: 極薄ゲート絶縁膜/シリコン界面における化学結合状態と電子状態に関する研究
Title Transcription: ゴクウスゲートゼツエンマクシリコンカイメンニオケルカガクケツゴウジョウタイトデンシジョウタイニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 高橋健介 [著]
Author Heading: 高橋, 健介タカハシ, ケンスケ
Publication, Distribution, etc.: [高橋健介]
Publication Date: 2002
Publication Date (W3CDTF): 2002
Extent: 1冊
Degree grantor/type: 武蔵工業大学
Date Granted: 平成15年3月19日
Date Granted (W3CDTF): 2003
Dissertation Number: 甲第76号
Degree Type: 博士 (工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2003-G932
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000004182408
http://id.ndl.go.jp/bib/000004182408
Bibliographic Record Category (NDL): 213