LSI製造における薄膜プロセス起因の欠陥発生メカニズムとその抑制に関する研究

LSI製造における薄膜プロセス起因の欠陥発生メカニズムとその抑制に関する研究

Call No. (NDL): UT51-2003-H878
Bibliographic ID of National Diet Library: 000004199636

Material type: 博士論文

Author: 長田芳裕 [著]

Publisher: [長田芳裕]

Publication date: 2002

Material Format: Paper

Capacity, size, etc.: 1冊

Name of awarding university/degree: 京都大学,博士 (工学)

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Note (General)：: 博士論文

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Bibliographic Record

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Paper

Material Type: 博士論文
Title: LSI製造における薄膜プロセス起因の欠陥発生メカニズムとその抑制に関する研究
Title Transcription: LSI セイゾウニオケルハクマクプロセスキインノケッカンハッセイメカニズムトソノヨクセイニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 長田芳裕 [著]
Author Heading: 長田, 芳裕オサダ, ヨシヒロ
Publication, Distribution, etc.: [長田芳裕]
Publication Date: 2002
Publication Date (W3CDTF): 2002
Extent: 1冊
Degree grantor/type: 京都大学
Date Granted: 平成15年3月24日
Date Granted (W3CDTF): 2003
Dissertation Number: 乙第11216号
Degree Type: 博士 (工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2003-H878
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000004199636
http://id.ndl.go.jp/bib/000004199636
Bibliographic Record Category (NDL): 213