半導体微細加工プロセスにおける層間絶縁膜エッチング技術に関する研究

半導体微細加工プロセスにおける層間絶縁膜エッチング技術に関する研究

Call No. (NDL): UT51-2003-U972
Bibliographic ID of National Diet Library: 000004308211

Material type: 博士論文

Author: 中川秀夫 [著]

Publisher: [中川秀夫]

Publication date: [2003]

Material Format: Paper

Capacity, size, etc.: 1冊

Name of awarding university/degree: 東京大学,博士 (工学)

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Note (General)：: 博士論文

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Bibliographic Record

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Paper

Material Type: 博士論文
Title: 半導体微細加工プロセスにおける層間絶縁膜エッチング技術に関する研究
Title Transcription: ハンドウタイビサイカコウプロセスニオケルソウカンゼツエンマクエッチングギジュツニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 中川秀夫 [著]
Author Heading: 中川, 秀夫ナカガワ, ヒデオ
Publication, Distribution, etc.: [中川秀夫]
Publication Date: [2003]
Publication Date (W3CDTF): 2003
Extent: 1冊
Degree grantor/type: 東京大学
Date Granted: 平成15年3月12日
Date Granted (W3CDTF): 2003
Dissertation Number: 乙第15628号
Degree Type: 博士 (工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2003-U972
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000004308211
http://id.ndl.go.jp/bib/000004308211
Bibliographic Record Category (NDL): 213