電子ビーム描画法を用いたin-Situシリコン選択エピタキシヤルSOI構造の研究

• Material Type: 図書
• Title: 電子ビーム描画法を用いたin-Situシリコン選択エピタキシヤルSOI構造の研究
• Title Transcription: デンシ ビーム ビョウガホウ オ モチイタ in-Situ シリコン センタク エピタキシヤル SOI コウゾウ ノ ケンキュウ
• Author/Editor: 石田, 誠, 豊橋技術科学大学
• Author Heading: 石田, 誠, 1950- イシダ, マコト, 1950- ( 01223195 )Authorities
• Publication Date: 1991-1992
• Publication Date (W3CDTF): 1991
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 一般研究(B)
• Subject Heading: Si選択エピタキシヤル成長 SIセンタクエピタキシヤルセイチヨウ; 電子ビーム照射 デンシビームシヨウシヤ; SOI構造 SOIコウゾウ; ガスソースMBE ガスソースMBE; Si/Al2O3/Si構造 SI/AL2O3/SIコウゾウ; 電子ビーム描画法 デンシビームビヨウガホウ; エピタキシヤルAl2O3膜 エピタキシヤルAL2O3マク
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 03452155
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H03452155
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000006981902; http://id.ndl.go.jp/bib/000006981902
• Bibliographic Record Category (NDL): 214