ゾルーゲル法による絶縁セラミツク薄膜の合成と電気的特性

• Material Type: 図書
• Title: ゾルーゲル法による絶縁セラミツク薄膜の合成と電気的特性
• Title Transcription: ゾルーゲルホウ ニ ヨル ゼツエン セラミツク ハクマク ノ ゴウセイ ト デンキテキ トクセイ
• Author/Editor: 吉村, 昇, 秋田大学
• Author Heading: 吉村, 昇, 1943- ヨシムラ, ノボル, 1943- ( 00747070 )Authorities
• Publication Date: 1991-1992
• Publication Date (W3CDTF): 1991
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 一般研究(C)
• Subject Heading: ジルコニア ジルコニア; シリカ シリカ; チタニア チタニア; ゾルーゲル ゾルーゲル; 薄膜 ハクマク; 応力 オウリヨク; 熱処理 ネツシヨリ
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 03650222
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H03650222
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000006983661; http://id.ndl.go.jp/bib/000006983661
• Bibliographic Record Category (NDL): 214