シリコン表面の水素終端化とシリサイド形成過程の研究

• Material Type: 図書
• Title: シリコン表面の水素終端化とシリサイド形成過程の研究
• Title Transcription: シリコン ヒョウメン ノ スイソ シュウ タンカ ト シリサイド ケイセイ カテイ ノ ケンキュウ
• Author/Editor: 上田, 一之, 大阪大学
• Author Heading: 上田, 一之 ウエダ, カズユキ
• Publication Date: 1992-1993
• Publication Date (W3CDTF): 1992
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 一般研究(B)
• Subject Heading: シリコン シリコン; シリサイド シリサイド; 水素終端化 スイソシユウタンカ; 水素吸着 スイソキユウチヤク; 水素検知 スイソケンチ; エピタキシー エピタキシー; 電子励起イオン脱離 デンシレイキイオンダツリ; TOF-ESD TOF-ESD
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 04452093
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H04452093
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000006986058; http://id.ndl.go.jp/bib/000006986058
• Bibliographic Record Category (NDL): 214