超LSIの完全ドライ・トータル低温製造ラインシステムの試作研究

• Material Type: 図書
• Title: 超LSIの完全ドライ・トータル低温製造ラインシステムの試作研究
• Title Transcription: チョウ LSI ノ カンゼン ドライ ・ トータル テイオン セイゾウ ライン システム ノ シサク ケンキュウ
• Author/Editor: 大見, 忠弘, 東北大学
• Author Heading: 大見, 忠弘 オオミ, タダヒロ
• Publication Date: 1992-1993
• Publication Date (W3CDTF): 1992
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 試験研究(A)
• Subject Heading: ドライプロセス ドライプロセス; 低温プロセス テイオンプロセス; 超LSI チヨウLSI; 半導体製造装置 ハンドウタイセイゾウソウチ; イオン注入 イオンチユウニユウ; 静電気障害 セイデンキシヨウガイ; MOSFET MOSFET; ゲート酸化 ゲートサンカ
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 04505002
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H04505002
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000006987003; http://id.ndl.go.jp/bib/000006987003
• Bibliographic Record Category (NDL): 214